Bang & OlufsenによるA9 Design Student Competitionで本学学生が最終選考に残りました
掲載日:2013年11月18日（月）
合屋友貴さん（基礎デザイン学科3年）の作品が、世界9カ国10校の指名大学を対象としたA9 Design Student Competitionの審査を通過し、最終選考に残りました。
同コンペティションは、デザイン性の高いオーディオやテレビ等で知られるデンマークのBang & Olufsenにより開催されたもので、最終審査は、同社Facebookの投票ページの投票結果及び6人の委員により行われます。Facebookでの投票期間は11月29日まで。
参加指名大学：Musashino Art University, Tokyo, Japan.
The Hong Kong Polytechnic University School of Design, Kowloon, Hong Kong.
College of Design and Innovation Tongji University, Shanghai, China.
Aalto University School of Arts, Design and Architecture, Helsinki, Finland.
Rhode Island School of Design, Providence, USA.
Pratt Institute, Art and Design, N.Y, USA.
Köln International School of Design, Köln/Cologne, Germany.
Brunel University London, School of Engineering and Design, London, U.K.
Delft University of Technology, faculty of Industrial Design Engineering, Delft, Holland.
The Royal Danish Academy of Fine Arts, Copenhagen, Denmark.
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